跟著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷開展，對(duì)清潔水的電導(dǎo)率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來(lái)越嚴(yán)厲。由于超純水在許多指標(biāo)上對(duì)半導(dǎo)體的要求很高，因而半導(dǎo)體職業(yè)的超純水與其他職業(yè)的用水要求不同。半導(dǎo)體職業(yè)對(duì)超純水有極其嚴(yán)厲的水質(zhì)要求。現(xiàn)在，我國(guó)常用的超純水規(guī)范有國(guó)家規(guī)范《電子級(jí)水》(GB/T 11446.1-2013)和美標(biāo)。 　　在半導(dǎo)體出產(chǎn)過(guò)程中，硼是一種p型雜質(zhì)。過(guò)量會(huì)使n型硅反轉(zhuǎn)，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業(yè)中應(yīng)充分考慮硼的去除。硼離美標(biāo)中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達(dá)較低的指標(biāo)，則必然會(huì)進(jìn)步半導(dǎo)體的性能。

　超純水是為了研制超純資料(半導(dǎo)體原件資料、納米精密陶瓷資料等)運(yùn)用蒸餾、去離子化、反滲透技能或其它適當(dāng)?shù)某R界精密技能出產(chǎn)出來(lái)的水，不宜飲用。 　　這樣的水是一般工藝很難到達(dá)的程度，應(yīng)該運(yùn)用超純水設(shè)備進(jìn)行制備。專業(yè)的超純水設(shè)備由預(yù)處理(多介質(zhì)過(guò)濾+超濾設(shè)備)體系+反滲透體系+EDI電除鹽體系+拋光混床體系組成，保證出水水質(zhì)滿足18.2MΩ·cm電子級(jí)水產(chǎn)水指標(biāo)。

　半導(dǎo)體職業(yè)是一個(gè)高能耗的職業(yè)。在半導(dǎo)體產(chǎn)品制作過(guò)程中，由于出產(chǎn)設(shè)備的精密性和出產(chǎn)工藝的復(fù)雜性，對(duì)其配套設(shè)施提出了很高的要求，尤其對(duì)超純水體系的運(yùn)用要求更高。 　　在半導(dǎo)體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需求進(jìn)行化學(xué)處理，而化學(xué)處理又與超純水有關(guān)水中的雜質(zhì)會(huì)進(jìn)入硅片，如帶入過(guò)量的雜質(zhì)，就會(huì)導(dǎo)致器件功能下降、影響產(chǎn)品功能。因而，制備高品質(zhì)的超純水已成為發(fā)展大規(guī)模集成電路的重要前提技能。