今后，廢水處理技能水平將不斷進(jìn)步，在出水水質(zhì)、出資成本、運(yùn)轉(zhuǎn)辦理、適用性等方面將有更多優(yōu)勢，在污水再生回用方面具有更多的運(yùn)用空間。 　半導(dǎo)體的出產(chǎn)需求經(jīng)過8個首要工序。超純水首要用于半導(dǎo)體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片。或許，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

　半導(dǎo)體業(yè)由于技能發(fā)展迅速、市場變化大，其出產(chǎn)能力具有波動性。所以，要求與之配套的半導(dǎo)體純水體系要有一定的可調(diào)節(jié)性、留有合理的余量，對超純水設(shè)備供水的靈活性，安全性，及時性,提出了更高的要求。萊特萊德半導(dǎo)體純水體系投入運(yùn)轉(zhuǎn)后，可以出產(chǎn)出合格的電阻率為18MQ *CM的超純水，為半導(dǎo)體用水供給用水保障。

超純水設(shè)備成果英勇的“芯” 　　芯片制作的每一道工序都離不開超純水，只要水質(zhì)純潔了，才能保證每一步的正常運(yùn)轉(zhuǎn)。超純水設(shè)備為芯片制作保駕護(hù)航。傳統(tǒng)超純水制備工藝一般運(yùn)用離子交換樹脂，但離子交換樹脂的運(yùn)用一般需求定期的樹脂再生，這既耗費(fèi)材料又耗費(fèi)人力。超純水設(shè)備選用超純水設(shè)備選用反滲透工藝，或選用反滲透后離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床出產(chǎn)超純水，以保證出水水質(zhì)符合職業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，滿足芯片職業(yè)用水需求，成果英勇的“芯”。