今后，廢水處理技能水平將不斷進步，在出水水質、出資成本、運轉辦理、適用性等方面將有更多優勢，在污水再生回用方面具有更多的運用空間。 　半導體的出產需求經過8個首要工序。超純水首要用于半導體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片。或許，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

跟著半導體工業的不斷開展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴厲。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因而半導體職業的超純水與其他職業的用水要求不同。半導體職業對超純水有極其嚴厲的水質要求。現在，我國常用的超純水規范有國家規范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。 　　在半導體出產過程中，硼是一種p型雜質。過量會使n型硅反轉，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業中應充分考慮硼的去除。硼離美標中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達較低的指標，則必然會進步半導體的性能。

　Huncotte體系選用核級樹脂，可經過共同的靶向離子交換樹脂有用控制體系出水的硼離子含量。選用IPC-MS檢測硼離子含量，并對硼離子流出物進行分析≤ 0.005μG/L遠低于美標E1.3中要求的硼離子含量。 　　今天，萊特萊德集裝箱海水淡化設備已出廠檢驗。萊特萊德集裝箱海水淡化設備處理了空間限制，安裝便利、體積小、操作簡略。 　　現在，在水資源緊缺的情況下，加強海水淡化的國產化技能研制，在水資源再利用方面，推行海水淡化設備顯得尤為重要，并且現代海水淡化設備也逐漸步入了現代這個快速開展的時代，其有用性和可靠性也越來越被人們所認可。