超純水是一種用于半導體制作過程中的洗滌劑。那么，在半導體出產中運用超純水會有什么影響呢?在用納米超精密工藝處理半導體時，假如在各種工藝前后留下一個小顆粒，則會導致差錯。因而，在各種工藝前后用超純水清洗晶圓可以保證清潔度并進步半導體出產率(輸出)。

跟著半導體工業的不斷開展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴厲。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因而半導體職業的超純水與其他職業的用水要求不同。半導體職業對超純水有極其嚴厲的水質要求。現在，我國常用的超純水規范有國家規范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。 　　在半導體出產過程中，硼是一種p型雜質。過量會使n型硅反轉，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業中應充分考慮硼的去除。硼離美標中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達較低的指標，則必然會進步半導體的性能。

超純水處理是一般工藝很難到達的程度，萊特萊德選用預處理、反滲透技能、靶向離子交換體系以及后級處理四大步驟，獨有的靶向離子交換體系針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子可以穩定≤5ppt。