超純水是為了研制超純資料(半導體原件資料、納米精密陶瓷資料等)運用蒸餾、去離子化、反滲透技能或其它適當的超臨界精密技能出產出來的水，不宜飲用。 　　這樣的水是一般工藝很難到達的程度，應該運用超純水設備進行制備。專業的超純水設備由預處理(多介質過濾+超濾設備)體系+反滲透體系+EDI電除鹽體系+拋光混床體系組成，保證出水水質滿足18.2MΩ·cm電子級水產水指標。

超純水處理是一般工藝很難到達的程度，萊特萊德選用預處理、反滲透技能、靶向離子交換體系以及后級處理四大步驟，獨有的靶向離子交換體系針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子可以穩定≤5ppt。

　半導體業由于技能發展迅速、市場變化大，其出產能力具有波動性。所以，要求與之配套的半導體純水體系要有一定的可調節性、留有合理的余量，對超純水設備供水的靈活性，安全性，及時性,提出了更高的要求。萊特萊德半導體純水體系投入運轉后，可以出產出合格的電阻率為18MQ *CM的超純水，為半導體用水供給用水保障。