跟著半導體工業的不斷開展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴厲。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因而半導體職業的超純水與其他職業的用水要求不同。半導體職業對超純水有極其嚴厲的水質要求。現在，我國常用的超純水規范有國家規范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。 　　在半導體出產過程中，硼是一種p型雜質。過量會使n型硅反轉，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業中應充分考慮硼的去除。硼離美標中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達較低的指標，則必然會進步半導體的性能。

　Huncotte體系選用核級樹脂，可經過共同的靶向離子交換樹脂有用控制體系出水的硼離子含量。選用IPC-MS檢測硼離子含量，并對硼離子流出物進行分析≤ 0.005μG/L遠低于美標E1.3中要求的硼離子含量。 　　今天，萊特萊德集裝箱海水淡化設備已出廠檢驗。萊特萊德集裝箱海水淡化設備處理了空間限制，安裝便利、體積小、操作簡略。 　　現在，在水資源緊缺的情況下，加強海水淡化的國產化技能研制，在水資源再利用方面，推行海水淡化設備顯得尤為重要，并且現代海水淡化設備也逐漸步入了現代這個快速開展的時代，其有用性和可靠性也越來越被人們所認可。

超純水處理是一般工藝很難到達的程度，萊特萊德選用預處理、反滲透技能、靶向離子交換體系以及后級處理四大步驟，獨有的靶向離子交換體系針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子可以穩定≤5ppt。