今后，廢水處理技能水平將不斷進步，在出水水質(zhì)、出資成本、運轉(zhuǎn)辦理、適用性等方面將有更多優(yōu)勢，在污水再生回用方面具有更多的運用空間。 　半導(dǎo)體的出產(chǎn)需求經(jīng)過8個首要工序。超純水首要用于半導(dǎo)體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片。或許，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

　超純水是為了研制超純資料(半導(dǎo)體原件資料、納米精密陶瓷資料等)運用蒸餾、去離子化、反滲透技能或其它適當?shù)某R界精密技能出產(chǎn)出來的水，不宜飲用。 　　這樣的水是一般工藝很難到達的程度，應(yīng)該運用超純水設(shè)備進行制備。專業(yè)的超純水設(shè)備由預(yù)處理(多介質(zhì)過濾+超濾設(shè)備)體系+反滲透體系+EDI電除鹽體系+拋光混床體系組成，保證出水水質(zhì)滿足18.2MΩ·cm電子級水產(chǎn)水指標。

　半導(dǎo)體業(yè)由于技能發(fā)展迅速、市場變化大，其出產(chǎn)能力具有波動性。所以，要求與之配套的半導(dǎo)體純水體系要有一定的可調(diào)節(jié)性、留有合理的余量，對超純水設(shè)備供水的靈活性，安全性，及時性,提出了更高的要求。萊特萊德半導(dǎo)體純水體系投入運轉(zhuǎn)后，可以出產(chǎn)出合格的電阻率為18MQ *CM的超純水，為半導(dǎo)體用水供給用水保障。