污水處理是環保水務板塊中的重要部分，是指經過專業處理手段去除或下降不同類型污水中的固體污染物及有機污染物，令被凈化的水質可以到達再次運用或排放要求的過程。污水按來歷可分為出產污水、日子污水及被污染的雨水。 　　出產污水可分為工業污水、農業污水及醫療污水，其中以工業污水為主。現在出產污水中的工業污水和日子污水處理為污水處理職業重點處理目標。 　　雖然近年來工業廢水排放量有所下降，但總量依舊很高，廢水排放量坐落前4位的職業依次為造紙和紙制品業、化學原料及化學制品制作業、紡織業、煤炭挖掘和洗選業，4個職業的廢水排放量為88億噸，占工業企業廢水排放總量的47.1%。

今后，廢水處理技能水平將不斷進步，在出水水質、出資成本、運轉辦理、適用性等方面將有更多優勢，在污水再生回用方面具有更多的運用空間。 　半導體的出產需求經過8個首要工序。超純水首要用于半導體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片。或許，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

跟著半導體工業的不斷開展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴厲。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因而半導體職業的超純水與其他職業的用水要求不同。半導體職業對超純水有極其嚴厲的水質要求。現在，我國常用的超純水規范有國家規范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。 　　在半導體出產過程中，硼是一種p型雜質。過量會使n型硅反轉，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業中應充分考慮硼的去除。硼離美標中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達較低的指標，則必然會進步半導體的性能。