超純水是一種用于半導體制作過程中的洗滌劑。那么，在半導體出產中運用超純水會有什么影響呢?在用納米超精密工藝處理半導體時，假如在各種工藝前后留下一個小顆粒，則會導致差錯。因而，在各種工藝前后用超純水清洗晶圓可以保證清潔度并進步半導體出產率(輸出)。

　半導體業由于技能發展迅速、市場變化大，其出產能力具有波動性。所以，要求與之配套的半導體純水體系要有一定的可調節性、留有合理的余量，對超純水設備供水的靈活性，安全性，及時性,提出了更高的要求。萊特萊德半導體純水體系投入運轉后，可以出產出合格的電阻率為18MQ *CM的超純水，為半導體用水供給用水保障。

超純水設備成果英勇的“芯” 　　芯片制作的每一道工序都離不開超純水，只要水質純潔了，才能保證每一步的正常運轉。超純水設備為芯片制作保駕護航。傳統超純水制備工藝一般運用離子交換樹脂，但離子交換樹脂的運用一般需求定期的樹脂再生，這既耗費材料又耗費人力。超純水設備選用超純水設備選用反滲透工藝，或選用反滲透后離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床出產超純水，以保證出水水質符合職業標準，滿足芯片職業用水需求，成果英勇的“芯”。