半導(dǎo)體職業(yè)是一個(gè)高能耗的職業(yè)。在半導(dǎo)體產(chǎn)品制作過程中，由于出產(chǎn)設(shè)備的精密性和出產(chǎn)工藝的復(fù)雜性，對(duì)其配套設(shè)施提出了很高的要求，尤其對(duì)超純水體系的運(yùn)用要求更高。 　　在半導(dǎo)體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需求進(jìn)行化學(xué)處理，而化學(xué)處理又與超純水有關(guān)水中的雜質(zhì)會(huì)進(jìn)入硅片，如帶入過量的雜質(zhì)，就會(huì)導(dǎo)致器件功能下降、影響產(chǎn)品功能。因而，制備高品質(zhì)的超純水已成為發(fā)展大規(guī)模集成電路的重要前提技能。

超純水處理是一般工藝很難到達(dá)的程度，萊特萊德選用預(yù)處理、反滲透技能、靶向離子交換體系以及后級(jí)處理四大步驟，獨(dú)有的靶向離子交換體系針對(duì)超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子可以穩(wěn)定≤5ppt。

超純水設(shè)備成果英勇的“芯” 　　芯片制作的每一道工序都離不開超純水，只要水質(zhì)純潔了，才能保證每一步的正常運(yùn)轉(zhuǎn)。超純水設(shè)備為芯片制作保駕護(hù)航。傳統(tǒng)超純水制備工藝一般運(yùn)用離子交換樹脂，但離子交換樹脂的運(yùn)用一般需求定期的樹脂再生，這既耗費(fèi)材料又耗費(fèi)人力。超純水設(shè)備選用超純水設(shè)備選用反滲透工藝，或選用反滲透后離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床出產(chǎn)超純水，以保證出水水質(zhì)符合職業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，滿足芯片職業(yè)用水需求，成果英勇的“芯”。