超純水是為了研制超純資料(半導體原件資料、納米精密陶瓷資料等)運用蒸餾、去離子化、反滲透技能或其它適當的超臨界精密技能出產出來的水，不宜飲用。 　　這樣的水是一般工藝很難到達的程度，應該運用超純水設備進行制備。專業的超純水設備由預處理(多介質過濾+超濾設備)體系+反滲透體系+EDI電除鹽體系+拋光混床體系組成，保證出水水質滿足18.2MΩ·cm電子級水產水指標。

　半導體職業是一個高能耗的職業。在半導體產品制作過程中，由于出產設備的精密性和出產工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對超純水體系的運用要求更高。 　　在半導體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需求進行化學處理，而化學處理又與超純水有關水中的雜質會進入硅片，如帶入過量的雜質，就會導致器件功能下降、影響產品功能。因而，制備高品質的超純水已成為發展大規模集成電路的重要前提技能。

　半導體業由于技能發展迅速、市場變化大，其出產能力具有波動性。所以，要求與之配套的半導體純水體系要有一定的可調節性、留有合理的余量，對超純水設備供水的靈活性，安全性，及時性,提出了更高的要求。萊特萊德半導體純水體系投入運轉后，可以出產出合格的電阻率為18MQ *CM的超純水，為半導體用水供給用水保障。