今后，廢水處理技能水平將不斷進步，在出水水質、出資成本、運轉辦理、適用性等方面將有更多優勢，在污水再生回用方面具有更多的運用空間。 　半導體的出產需求經過8個首要工序。超純水首要用于半導體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片?；蛟S，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

超純水處理是一般工藝很難到達的程度，萊特萊德選用預處理、反滲透技能、靶向離子交換體系以及后級處理四大步驟，獨有的靶向離子交換體系針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子可以穩定≤5ppt。

超純水設備成果英勇的“芯” 　　芯片制作的每一道工序都離不開超純水，只要水質純潔了，才能保證每一步的正常運轉。超純水設備為芯片制作保駕護航。傳統超純水制備工藝一般運用離子交換樹脂，但離子交換樹脂的運用一般需求定期的樹脂再生，這既耗費材料又耗費人力。超純水設備選用超純水設備選用反滲透工藝，或選用反滲透后離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床出產超純水，以保證出水水質符合職業標準，滿足芯片職業用水需求，成果英勇的“芯”。