x射線光電子能譜儀工作原理是 一定能量的X光映照到樣品外表，和樣品發作作用，能夠使樣品原子中的電子脫離原子成為自在電子，應用能量剖析器，測得光電子的能量，最終取得樣品的組成。

X射線光電子能譜儀根本原理

X射線光子的能量在1000~1500 ev之間，不只可使分子的價電子電離而且也能夠把內層電子激起出來，內層電子的能級受分子環境的影響很小。同一原子的內層電子分離能在不同分子中相差很小，故它是特征的。光子入射到固體外表激起出光電子，應用能量剖析器對光電子停止剖析的實驗技術稱為光電子能譜。

XPS的原理是用X射線去輻射樣品，使原子或分子的內層電子或價電子受激起射出來。被光子激起出來的電子稱為光電子。能夠丈量光電子的能量，以光電子的動能/約束能(binding energy，Eb=hv光能量-Ek動能-w功函數)為橫坐標，相對強度(脈沖/s)為縱坐標可做出光電子能譜圖。從而取得試樣有關信息。X射線光電子能譜因對化學剖析最有用，因而被稱為化學剖析用電子能譜。

深圳X射線光電子能譜機構

X射線光電子能譜儀特性

XPS作為一種現代剖析辦法，具有如下特性:

(1)能夠剖析除H和He以外的一切元素，對一切元素的靈活度具有相同的數量級。

(2)相鄰元素的同種能級的譜線相隔較遠，互相干擾較少，元素定性的標識性強。

(3)可以觀測化學位移?；瘜W位移同原子氧化態、原子電荷和官能團有關。化學位移信息是XPS用作構造剖析和化學鍵研討的根底。

(4)是一種高靈活超微量外表剖析技術。樣品剖析的深  度約2 nm，信號來自外表幾個原子層，樣品量可少至10-8g，絕 對靈活度可達10-18g。

X射線光電子能譜儀的應用

XPS主要應用是測定電子的分離能來審定樣品外表的化學性質及組成的剖析，其特性在光電子來自外表10nm以內，僅帶出外表的化學信息，具有剖析區域小、剖析深 度淺和不毀壞樣品的特性，普遍應用于金屬、無機資料、催化劑、聚合物、涂層資料礦石等各種資料的研討，以及腐蝕、摩擦、光滑、粘接、催化、包覆、氧化等過程的研討。