超純水是一種用于半導體制作過程中的洗滌劑。那么，在半導體出產中運用超純水會有什么影響呢?在用納米超精密工藝處理半導體時，假如在各種工藝前后留下一個小顆粒，則會導致差錯。因而，在各種工藝前后用超純水清洗晶圓可以保證清潔度并進步半導體出產率(輸出)。

跟著半導體工業的不斷開展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴厲。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因而半導體職業的超純水與其他職業的用水要求不同。半導體職業對超純水有極其嚴厲的水質要求。現在，我國常用的超純水規范有國家規范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。 　　在半導體出產過程中，硼是一種p型雜質。過量會使n型硅反轉，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業中應充分考慮硼的去除。硼離美標中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達較低的指標，則必然會進步半導體的性能。

集裝箱式海水淡化設備的優勢怎么? 　　1、集裝箱式海水淡化設備選用反滲透別離技能進行海水淡化脫鹽，工藝流程和操作參數經過計算機進行優化規劃。 　　2、海水淡化脫鹽工藝無需海水加溫，運轉于常溫下，無相變現象，因而能耗低，制水成本低。 　　3、規劃時充分考慮船舶的特殊性，體積小，重量輕，占用省、安裝便利、適應性強，可在狹小的艙室內安裝。機架管路、管件選用316不銹鋼及耐蝕資料制作。 　　4、集裝箱式海水淡化設備操作簡略，修理便利，只需有電、有海水，啟動后就能立即供給淡水。