今后，廢水處理技能水平將不斷進步，在出水水質、出資成本、運轉辦理、適用性等方面將有更多優勢，在污水再生回用方面具有更多的運用空間。 　半導體的出產需求經過8個首要工序。超純水首要用于半導體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片。或許，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

　Huncotte體系選用核級樹脂，可經過共同的靶向離子交換樹脂有用控制體系出水的硼離子含量。選用IPC-MS檢測硼離子含量，并對硼離子流出物進行分析≤ 0.005μG/L遠低于美標E1.3中要求的硼離子含量。 　　今天，萊特萊德集裝箱海水淡化設備已出廠檢驗。萊特萊德集裝箱海水淡化設備處理了空間限制，安裝便利、體積小、操作簡略。 　　現在，在水資源緊缺的情況下，加強海水淡化的國產化技能研制，在水資源再利用方面，推行海水淡化設備顯得尤為重要，并且現代海水淡化設備也逐漸步入了現代這個快速開展的時代，其有用性和可靠性也越來越被人們所認可。

超純水設備成果英勇的“芯” 　　芯片制作的每一道工序都離不開超純水，只要水質純潔了，才能保證每一步的正常運轉。超純水設備為芯片制作保駕護航。傳統超純水制備工藝一般運用離子交換樹脂，但離子交換樹脂的運用一般需求定期的樹脂再生，這既耗費材料又耗費人力。超純水設備選用超純水設備選用反滲透工藝，或選用反滲透后離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床出產超純水，以保證出水水質符合職業標準，滿足芯片職業用水需求，成果英勇的“芯”。