干凈無塵車間設計工程自身便具有高新技術、技術密集和資金密集的特性，為了進步干凈無塵車間工程建成后的技術經濟效益，在停止干凈無塵車間設計工程時，干凈無塵車間公司應設法盡可能地設計一定的活靈性、寬放量，以便使建成后的干凈無塵車間工程。能隨著科學技術的開展，企業后續更便當地停止技術改造，順應產品換代或設備更新的請求。 干凈無塵車間設計工程是各專科技術設計的綜合，特別是干凈無塵車間工程的工藝設計、空氣凈化設計和各種特殊請求的設計技術的親密協同、互相透滲和合理布置的綜合設計。模塊式干凈無塵車間工程、隔離安裝及微環境的不時研討、應用，并被普遍平常采用，便是一種可以順應時期的技術開展、靈敏及有綜合經濟性的干凈無塵車間設計工程廠房設計處理計劃。 干凈無塵車間設計工程應做到順應工藝(或運用)流程、合理選擇各類設備和安裝、盡力完成人流和物流的順暢短捷、氣流流型選樣得當、凈化空調系統配置合理、各種特殊請求的技術措施得當，干凈廠房的平面、空間布置合理，完成牢靠經濟運轉的干凈廠房設備。

干凈室中的溫濕度控制 干凈空間的溫濕度主要是依據工藝請求來肯定，但在滿足工藝請求的條件下，應思索到人的溫馨度感。隨著空氣干凈度請求的進步，呈現了工藝對溫濕度的請求也越來越嚴的趨向。詳細工藝對溫度的請求以后還要羅列，但作為總的準繩看，由于加工精度越來越精密，所以對溫度動搖范圍的請求越來越小。例如在大范圍集成電路消費的光刻曝光工藝中，作為掩膜板資料的玻璃與硅片的熱收縮系數的差請求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就惹起了0.24um線性收縮，所以必需有±0.1度的恒溫，同時請求濕度值普通較低，由于人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超越25度，濕渡過高產生的問題更多。相對濕度超越55%時，冷卻水管壁上會結露，假如發作在精細安裝或電路中，就會惹起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將經過空氣中的水分子把硅片外表粘著的灰塵化學吸附在外表難以肅清。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于外表，同時大量半導體器件容易發作擊穿。關于硅片消費最佳濕度范圍為35—45%。

實驗室凈化分類 亂流式 空氣由空調箱經風管與干凈室內之空氣過濾器(HEPA) 進入干凈室，并由干凈室兩側隔間墻板或高架地板回風。氣流非直線型運動而呈不規則之亂流或渦流狀態。此型式適用于干凈室等級1,000-100,000級。 優點：結構簡單、系統建形成本低，干凈室的擴大比擬容易，在某些特殊用處場所，可并用無塵工作臺，進步干凈室等級。 缺陷：亂流形成的微塵粒子于室內空間飄浮不易排出，易污染制程產品。另外若系統中止運轉再激活，欲達需求之干凈度，常常須耗時相當長一段時間